投影式光刻机

UX-4系列

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USHIO长年开发经验，集光源・光学技术，采用独自的大面积投影镜头技术研发的背投式对准光刻设备。
到8英寸为止的晶片可在非接触下模式下也可以一起对准光刻曝光。
适用于深度焦点非平面晶片，实现接近式曝光为数不多的高生产性、高成品率。

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