液体原料CVD设备
PD-200STL 负载锁定系统，最大可达Ø200毫米（8"）
PD-200STL是一种用于研发的低温(80~400℃)、高速(>300nm/min)等离子体增强型CVD系统。Samco独特的液态源CVD系统采用自偏置沉积技术和液态TEOS源，以低应力沉积SiO2薄膜，从薄膜到极厚的薄膜（高达100μm）。PD-200STL具有时尚、紧凑的设计，只需要最小的洁净室空间。
主要特点和优点
- 加工范围达Ø200毫米（8"）。
- 阴极耦合自偏析沉积技术可以实现低应力薄膜的高速（>300nm/min）沉积。
- 通过低温沉积，可以在塑料表面上沉积薄膜。
- 高纵横比结构的优秀阶梯覆盖率
- 使用锗、磷、硼液源控制折射率。
- PD-200STL设计时尚、紧凑，只需要最小的洁净室空间。
应用
- 塑料材料上保护膜的沉积
- 在3D LSI的通孔侧壁上沉积绝缘膜。
- 光波导的制造（光纤芯/包层）。
- 制造用于微型机械生产的面罩。
- 覆盖高纵横比结构，如MEMS器件。
- SAW设备的温度补偿膜和钝化膜。
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