PRODUCTS

产品信息

产品信息

液体原料CVD设备

PD-200STL 负载锁定系统,最大可达Ø200毫米(8")


PD-200STL是一种用于研发的低温(80~400℃)、高速(>300nm/min)等离子体增强型CVD系统。Samco独特的液态源CVD系统采用自偏置沉积技术和液态TEOS源,以低应力沉积SiO2薄膜,从薄膜到极厚的薄膜(高达100μm)。PD-200STL具有时尚、紧凑的设计,只需要最小的洁净室空间。

主要特点和优点
  • 加工范围达Ø200毫米(8")。
  • 阴极耦合自偏析沉积技术可以实现低应力薄膜的高速(>300nm/min)沉积。
  • 通过低温沉积,可以在塑料表面上沉积薄膜。
  • 高纵横比结构的优秀阶梯覆盖率
  • 使用锗、磷、硼液源控制折射率。
  • PD-200STL设计时尚、紧凑,只需要最小的洁净室空间。
应用
  • 塑料材料上保护膜的沉积
  • 在3D LSI的通孔侧壁上沉积绝缘膜。
  • 光波导的制造(光纤芯/包层)。
  • 制造用于微型机械生产的面罩。
  • 覆盖高纵横比结构,如MEMS器件。
  • SAW设备的温度补偿膜和钝化膜。
联系我们